特性

1. 耐化学腐蚀性

• 几乎不受所有强酸、强碱、有机溶剂侵蚀，溶出与析出物极低
• 可耐受绝大多数 化学环境，在化工生产中可长期抵抗硫酸、硝酸、氢氧化钠等强腐蚀介质

2. 宽温域稳定性

• 连续使用温度 -200℃ 至 +260℃，短期可达 300℃
• 可耐受液氮冷冻与高温蒸汽灭菌双重考验，适应半导体制造中的高温工艺需求

3. 抗静电与洁净度

• 添加导电材料（如碳粉），表面电阻可控，有效防止静电积累
• 符合半导体级洁净标准，金属离子析出极低，避免对敏感元件造成污染

4. 优异电气性能

• 介电常数低且频率稳定性好，高频下绝缘性能优异
• 击穿强度高，适合高压绝缘应用

5. 加工性能

• 可熔融加工：挤出、注塑、压塑、吹塑、传递成型等
• 熔体流动速率略高于 9725，更易加工

6. 其他特性

• 低表面能，不粘性和自润滑性
• 耐候耐老化，抗紫外线辐射，户外长期使用不老化变色
• 高熔体强度、高韧性、低吸水率、低磨耗

应用场景